目前，用于大量生产ITO透明导电玻璃的设备都是连续磁控溅射系统(可参考我司生产的ITO导电玻璃镀膜生产线设备)，常见的连续生产线一般由9-11个真空室组成(进片室、过渡室、缓冲室、SiO2镀膜室、中央缓冲室、ITO镀膜室、缓冲室、过渡室、出片室)。各真空室之间的隔离阀门采用由汽缸驱动的旋转阀门，隔气性能良好，结构简单，运行可靠。各室之间根据工艺要求切换关闭或开通，调节方便、密封性好。真空室内的加热采用平板式加热装置，热量辐射均匀、温度梯度小，同时在密封处及室内设置辐射屏蔽板和水冷却结构。
镀恩爱生产线抽气系统的主泵采用分子泵，前级泵采用罗茨泵、机械泵及旋片泵。为了获得均匀的ITO膜，在溅射室内的高真空抽气系统为对称设置，该抽气系统配置合理，切换过渡时间短、气流均匀。
基片可采用单层或双层插片式安置，立式行走。基片架采用导向装置，运行稳定、摆动误差小。传动方式有摩擦式传动、机械密封传动、磁悬浮传动等。传动系统设在基片架的下部，由变频调速电机驱动同步传动带，传动平稳、速度同步易调节，整个传动系统即平稳又可靠。
镀膜线的前后各设置上料、卸料装置及回架装甲，装片卸片方便。回架装置简单，整套设备紧凑、占地面积小。
整个镀膜工艺的过程是清洗-上片-真空室镀膜-卸片-整理包装。玻璃原片在清洗机上经过预清洗、烘干等表面处理后，确保进入真空室前玻璃的表面质量要求，上片至装片架进入镀膜线的进片室。玻璃基片在过渡室的缓冲室进行加热，真空度为1*10-3Pa，然后，基片进入到SiO2镀膜室，进行溅射镀制SiO2膜，SiO2膜层可有效阻止玻璃基片中的钠离子进入ITO膜层中。镀制完SiO2膜层的基片经过过渡缓冲室，进入到ITO镀膜室溅射沉积ITO膜。整个镀膜周期约2min.
为了保证上述整个工艺过程的正常进行，生产线各工序均设有光电行程开关，自动控制基片的运行状态。基片的运行快慢、节奏均由调频调速电机进行调节。各真空室均设有各种参数控制装置以分别调节工艺参数。
ITO透明导电膜的制备工艺
常用的ITO透明导电玻璃上一般包含两层薄膜：SiO2膜和ITO膜，其中SiO2膜层为阻挡层，是为了防止基片中的碱金属离子扩散到平板显示器件的工作介质中，SiO2膜层的性能直接影响FPD器件的化学稳定性，并且决定了FPD器件的使用寿命，ITO膜层为导电层。其中SiO2膜层一般采用射频溅射方式或者中频溅射方式沉积，ITO膜可采用直流磁控溅射方式沉积。
SiO2膜层的制备方法有射频溅射法、中频溅射法、溶胶-凝胶法及液相沉积法等技术。在连续式ITO规模生产设备中，SiO2膜层常用的制备工艺主要是：射频溅射和中频溅射
ITO膜的制备方法：目前显示器行业不同用途ITO导电膜的制备工艺主要有：化学气相沉积法，DC磁控溅射法、DC+RF溅射法、DC+脉冲溅射法、喷涂法和真空蒸镀法等。其中溅射镀膜法更适合于大批量规模化生产。
ITO透明导电玻璃各种用途：1、液晶显示用ITO导电玻璃2、彩色滤光片(CF)3、有机电致发光显示器(OLED)4、手机、工业控制面板、家用电器以及信息查询系统等的触摸屏用ITO导电玻璃。
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