IVD离子辅助蒸发镀膜技术简介？

　　蒸发镀(VaporDeposition)技术是先将工件放入真空室，采用一定的方法加热，然后使镀膜材料(如金属铝)蒸发或升华，飞至工件表面凝聚成膜，该技术具有设备简单、工艺易控制的优点。

　　但是一般热蒸发获得的膜层比较粗糙，膜层的附着强度差，并且很容易形成粗大的柱状晶结构，耐腐蚀性能也不理想，一般的蒸发镀技术用于表面防护处理的应用较少，只有国外有少量的关于离子辅助蒸发沉积(IonVaporDeposition,IVD)技术制备铝膜的报道。

　　IVD技术是指在蒸发源上方的工件上加负偏压，在工件周围产生辉光放电，在蒸发镀膜过程中，被蒸发的金属蒸气原子通过辉光区时，部分金属原子被电离成为金属离子，加速的金属离子或原子运动至工件表面成膜。

　　该技术所制备的金属涂层具有致密性好、与基体的结合程度高、沉积速率快等优点，因此，该技术可应用于腐蚀防护膜层的制备。

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